Siliziumnitrid
Si3N4, amorphes, hartes und chemisch resistentes Material, dient als Diffusions-Barriere gegen Wasser und Alkaliionen. Herstellung im PACVD-Verfahren aus SiH4 und NH3, große Bedeutung in der Halbleiter-Technik.
Bremen | Germany
17. - 19.11.2026
Halle 7 Stand W27
info@plasma.com
+49 7458 999 31 0
service@plasma.com +49 7458 999 31 200
Si3N4, amorphes, hartes und chemisch resistentes Material, dient als Diffusions-Barriere gegen Wasser und Alkaliionen. Herstellung im PACVD-Verfahren aus SiH4 und NH3, große Bedeutung in der Halbleiter-Technik.
Wir helfen Ihnen gerne weiter. Nutzen Sie unkompliziert unser Kontaktformular; alternativ kontaktieren Sie uns direkt per E-Mail oder Telefon.
