Нитрид кремния
3N4, аморфный, твердый и химически стойкий материал, служит диффузионным барьером от воды и ионов щелочных металлов. Создание PACVD-методом из SiH4 и NH3, большое значение в полупроводниковой технике
info@plasma.com
+49 7458 999 31 0
service@plasma.com +49 7458 999 31 200
3N4, аморфный, твердый и химически стойкий материал, служит диффузионным барьером от воды и ионов щелочных металлов. Создание PACVD-методом из SiH4 и NH3, большое значение в полупроводниковой технике
Мы будем рады помочь вам. Используйте нашу контактную форму без проблем, или свяжитесь с нами напрямую по электронной почте или телефону.
