Нитрид кремния

3N4аморфный, твердый и химически стойкий материал, служит диффузионным барьером от воды и ионов щелочных металлов. Создание PACVD-методом из SiH4 и NH3, большое значение в полупроводниковой технике

вернуться к глоссарию

+49 (0)7458 99931-0

Поговорите с экспертом

info@plasma.com

Напишите нам

Запросить предложение

Вы точно знаете, что ищете