氮化硅

₃N₄， 无定形、坚硬且具有耐化学性的材料，其用作防水和碱离子的 扩散阻隔层 。使用 PACVD方法通过 SiH₄ 和 NH₃ 来制成，这在半导体技术领域具有重要意义。