Low Cost NiederdruckplasmaPlasmaanlage Zepto
Flexibel konfigurierte Plasmaanlage für Labor und Entwicklung
Die Low Cost Anlage Zepto vereint eine kompakte Bauweise mit hoher Funktionalität für professionelle Plasmaanwendungen. Mit einem Kammervolumen von rund 0 - 3 Litern ist sie ideal für Laboranwendungen, Forschung sowie Kleinserienfertigungen.
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Flexible Low Cost Plasmaanlage für vielfältige Anwendungen
Die Low Cost Plasmaanlage Zepto vereint Funktionalität mit modernster Technologie in einem kompakten Gehäuse. Mit einem Kammervolumen von bis zu 0 - 3 Litern eignet sich die Anlage für unterschiedlichste Bauteile und Materialproben. Je nach Einsatzgebiet kann zwischen einer halbautomatischen Steuerung oder einer komfortablen Low Cost PC-Steuerung gewählt werden. Dadurch lassen sich Plasmaprozesse einfach bedienen und reproduzierbar durchführen.
Die Niederdruck-Plasmaanlage Zepto wird in zahlreichen Branchen eingesetzt. Dazu gehören unter anderem Forschung und Entwicklung, Analytik, Medizintechnik, Kunststofftechnik, Textiltechnik sowie die Kleinserienfertigung. Überall dort, wo Oberflächen gereinigt, aktiviert oder für nachfolgende Prozesse vorbereitet werden müssen, liefert die Zepto zuverlässige Ergebnisse.
Durch ihre Kombination aus kompakter Bauweise, flexibler Ausstattung und einfacher Bedienung eignet sich die Zepto sowohl für Laborumgebungen als auch für produktionsnahe Entwicklungsprozesse.
Reinigen
Die Labor Low Cost Niederdruckplasma Anlage Zepto bietet Lösungen für die sterile Feinstreinigung aller Oberflächen, für jedes Substrat. Die Plasmareinigung entfernt alle organischen Rückstände ohne das Bauteil chemisch oder thermisch zu belasten.
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Aktivieren
Voraussetzung für die Haftung von Bindungspartnern ist eine gute Benetzbarkeit der Oberfläche. Die Plasmaaktivierung in der Low Cost Niederdruckplasma Anlage Zepto folgt umgehend nach der Reinigung und erhöht die Oberflächenenergie.
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0 - 3l Kammer
Die Plasmaanlage Zepto ist mit einem Kammervolumen von 0 - 3l ausgestattet, welches optimal für kleine Proben geeignet ist. Die kompakte Prozesskammer verspricht eine kurze Evakuierungszeit und kurze Prozesslängen für effiziente und wirtschaftliche Ergebnisse. Die Kammer besteht aus Borosilikatglas welches eine besondere chemische Beständigkeit und damit eine hohe Reinheit aufweist. Durch diese Eigenschaften ist die Zepto optimal für Anwendungen in der Medizintechnik sowie Labor- und Forschungsarbeiten, bei denen hohe Ansprüche an Reinheit eingehalten werden müssen. Zusätzlich verhindert eine außerhalb der Kammer sitzende Elektrode, dass minimalste Verunreinigung durch Absputtern des Materials entstehen. Bei bestimmten Anwendungen steht auch eine Drehflasche, für eine gleichmäßige Behandlung zur Auswahl. Mit der durchdachten Konstruktion der Zepto, unterstützt Diener electronic bei den anspruchsvollen Reinheitsanforderungen und bietet Voraussetzung für sichere und reproduzierbare Prozesse. Zudem besteht die Option auf eine RIE-Glockenkammer, die Reaktives Ionenätzen als Trockenätztechnik ermöglicht. Dieses Verfahren findet vor allem Anwendung bei der fotolithographischen Herstellung von PDMS Chips sowie der Verklebung Lab-On-Chip. Die Vakuumkammer einer RIE Anlage besteht aus Aluminium und besitzt eine metallische Elektrode in der Mitte.
Wirtschaftliche Low Cost Anlage
Das Plasmasystem Zepto kombiniert modernste Plasmatechnologie mit einem kompakten Gehäuse und einer intuitiv bedienbaren Benutzeroberfläche. Durch ihre kompakte Bauweise lässt sich die Zepto schnell in eine Labor- und Forschungsumgebung integrieren. Sie bietet eine leistungsstarke Plasmabehandlung auf einer platzsparenden Basis. Als wirtschaftliche Lösung präsentiert die Plasmaanlage einen einfachen Einstieg in die professionelle Plasmaoberflächenbehandlung. Die Kombination aus niedrigen Investitions- und Betriebskosten mit beständiger Prozessqualität ermöglichen wirtschaftliches Arbeiten in anspruchsvollen Anwendungen.
Einfache Steuerung
Trotz modernster Technologie ist die Zepto ausgestattet mit einer überschaubaren Low Cost PC-Steuerung, welche eine einfache Bedienung ermöglicht. In der Steuerungseinheit mit Windows CE sind alle Prozesse mit voreingestellten Programmen hinterlegt, sodass keine Vorkenntnisse oder umfangreiche Schulungen nötig sind. Sie bietet eine Einsicht in den Ist-Zustand sowie eine übersichtliche Programmverwaltung. Die einfache Bedienung erleichtert den Einstieg in die Plasmatechnologie und bietet ein effizientes Arbeiten.
Technische Daten
Gehäuseabmessungen
Tischgerät
Steuerung
Halbautomatisch
Low Cost PC (Windows CE)
Vakuumkammer
Borosilikatglas, Scharniertüre
⌀ 105 mm x
T 300 mm; Volumen ca. 3 Liter
Aluminium, mit Deckel
⌀ 150 mm x
H 60 mm; Volumen ca. 1 Liter
Generator
40,00 kHz | Leistung 0 - 100 W
13,56 MHz | Leistung 0 - 200 W
Gaszufuhr
Nadelventil
MFC (Mass flow controller)
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
RIE Elektrode
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Technische Änderungen vorbehalten.
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Zepto
Halbautomatik kHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 425 mm x H 185 mm x T 450 mm
Steuerung
Halbautomatisch
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 105 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
3
Liter
Generator
40,00 kHz | Leistung 0 - 100 W
Gaszufuhr
2 x Nadelventil
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Zepto
Halbautomatik MHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 425 mm x H 185 mm x T 450 mm
Steuerung
Halbautomatisch
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 105 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
3
Liter
Generator
13,56 MHz | Leistung 0 - 200 W
Gaszufuhr
2 x Nadelventil
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Zepto
PC kHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 425 mm x H 185 mm x T 450 mm
Steuerung
Low Cost PC
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 105 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
3
Liter
Generator
40,00 kHz | Leistung 0 - 100 W
Gaszufuhr
2 x MFC (Mass flow controller)
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Zepto
PC MHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 425 mm x H 185 mm x T 450 mm
Steuerung
Low Cost PC
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 105 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
3
Liter
Generator
13,56 MHz | Leistung 0 - 200 W
Gaszufuhr
2 x MFC (Mass flow controller)
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Zepto
RIE Halbautomatisch MHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 425 mm x H 310 mm x T 450 mm
Steuerung
Halbautomatisch
Vakuumkammer
Aluminium
,
mit Deckel
⌀ 150 mm x
H 60 mm
Volumen ca.
1
Liter
Generator
13,56 MHz | Leistung 0 - 200 W
Gaszufuhr
2 x Nadelventil
Elektrode
RIE Elektrode
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Gehäuseabmessungen
Steuerung
Vakuumkammer
Generator
Gaszufuhr
Elektrode
Druckmessung
Spannungsversorgung
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FAQ Häufig gestellte Fragen
Ist die Plasmaanlage Zepto für Dauerbetrieb geeignet?
Die Low Cost-Anlage Zepto für Forschung und Technik, ist nicht für den Dauerbetrieb geeignet.
Was kann mit der Zepto alles behandelt werden?
Mit der Zepto von Diener electronic können alle Materialien die vakuumbeständig sind behandeln werden.
Kann mit der Anlage Zepto beschichtet werden?
Mit der Anlage Zepto aus dem Low-Cost-Bereich, ist es leider nicht möglich die Oberfläche zu beschichten.
Kann mit der Anlage Zepto geätzt werden?
Mit der Anlage Zepto aus dem Low-Cost-Bereich, ist es leider nicht möglich die Oberfläche zu ätzen.
Welche Gase können bei der Zepto eingesetzt werden?
Bei der Zepto sowie generell im Niederdruckplasma können folgende Gase eingesetzt werden: O2, N2, Ar, Raumluft, CO2, H2O-Dampf und Formiergas
Kann die Anlage Zepto magnetische Bauteile behandelt?
Auch magnetische Bauteile lassen sich in der Vakuumkammer der Zepto von Diener electronic gut behandeln.
Kann mit der Zepto temperaturempflindliche Bauteile behandelt?
Ja, da es sich um ein kaltes Plasma handelt, ist die Niederdruckplasmaanlagen Zepto von Diener electronic geeignet für temperaturempfindliche Bauteile.
Können ESD-empfindliche Bauteile mit der Zepto behandelt werden?
Ja, mit Niederdruckplasma der Zepto ist dies möglich. Auf Anfrage kann einen Versuch in unserer Prozessabteilung durchgeführt werden.
Welcher typische Druckbereich ist in der Regel bei der Zepto in der Vakuumkammer?
Der typische Druckbereich der Zepto liegt bei einstellbaren 0,1 - 1,0 mbar, je nach definiertem Niederdruckplasmaprozesse.
Wie hoch ist die typische Prozesstemperatur bei der Zepto in der Vakuumkammer?
Bei der Zepto von Diener electronic liegt normalerweise die Temperatur bei Raumtemperatur bis ca. 80 °C - in Abhängigkeit von Bauteil, Kammerart, Prozesszeit und der Beladungsmenge. Höhere Temperaturen können auf Anfrage bei Diener electronic mittels Heizelemente erreicht werden.
Welche Anbindungsmöglichkeiten in Bezug auf die Software sind bei der Zepto möglich?
Bei der Low-Cost Steuerung von Zepto ist eine Anbindung nicht möglich.
Sind Abluftfilter bei der/dem Zepto nötig?
Ja, alle Anlagen müssen zwingend an eine gute Abluft angeschlossen werden vollkommen egal welches Gas verwendet wird. Es entstehen Stickoxide, Abgase, feine Öl-Nebel (bei Öl Pumpen), usw., welche nicht eingeatmet werden dürfen, zudem sind die Gase oft sauer, somit begünstigen sie das Rosten von umliegenden Teilen, Maschinen, Anlagen.
Welche Oberflächen kann mit der Plasmaanlage Zepto aktiviert werden?
Mit der Plasmaanlage Zepto von Diener electronic lassen sich folgende Oberflächen wie Kunststoffe, Metalle, Gläser, Keramiken und Textilien aktivieren.
Welche Frequenz liegt bei der GHz-Anlage Zepto an?
Die Generatoren zur GHz-Anlage Zepto arbeiten mit ISM-Frequenz 2,45 MHz - vergleichbar mit der Intensität wie bei einer Mikrowelle. Fragen Sie bitte nach den Sicherheitsbestimmungen für Personen mit Herzschrittmacher.
