Low Cost NiederdruckplasmaPlasmaanlage Atto
Die leistungsstarke Low Cost Lösung für Labor und Forschung
Die größte Low Cost Plasmaanlage Atto mit großem Kammervolumen von rund 10 Litern wurde speziell für Anwendungen in Forschung, Entwicklung, Analytik und der Kleinserienfertigung entwickelt.
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Die größte Low Cost Plasmaanlage ihrer Klasse
Mit einem Kammervolumen von etwa 10 Litern ist die Atto die größte Anlage innerhalb der Low-Cost-Serie. Sie eignet sich ideal für Anwender, die ein größeres Prozessvolumen benötigen und gleichzeitig von einer kompakten, wirtschaftlichen Plasmaanlage profitieren möchten.
Die optionale Low Cost PC-Steuerung ermöglicht eine komfortable Bedienung über standardisierte Prozessprogramme und sorgt für reproduzierbare Ergebnisse. Ob Plasmareinigung oder Oberflächenaktivierung – die Atto bietet eine wirtschaftliche und flexible Lösung für zahlreiche Anwendungen in Labor und Industrie.
Die Niederdruck-Plasmaanlage Atto kommt überall dort zum Einsatz, wo Oberflächen feinst gereinigt oder aktiviert werden müssen. Typische Anwendungsbereiche sind Forschung und Entwicklung, Analytik, Medizintechnik, Kunststofftechnik, Textiltechnik sowie die Kleinserienfertigung.
Dank ihrer hohen Flexibilität eignet sich die Anlage sowohl für den Einsatz im Labor als auch für produktionsnahe Entwicklungsprozesse und bietet einen kostengünstigen Einstieg in die professionelle Plasmaoberflächenbehandlung.
Reinigen
Die Labor Low Cost Niederdruckplasma Anlage Atto bietet Lösungen für die sterile Feinstreinigung aller Oberflächen, für jedes Substrat. Die Plasmareinigung entfernt alle organischen Rückstände ohne das Bauteil chemisch oder thermisch zu belasten.
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Aktivieren
Voraussetzung für die Haftung von Bindungspartnern ist eine gute Benetzbarkeit der Oberfläche. Die Plasmaaktivierung in der Low Cost Niederdruckplasma Anlage Atto folgt umgehend nach der Reinigung und erhöht die Oberflächenenergie.
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10l Kammer
Die Plasmaanlage Atto ist mit einem Kammervolumen von 10l ausgestattet, welches optimal für aufwendigere Proben und Bauteile im Labor geeignet ist. Die kompakte Prozesskammer verspricht eine kurze Evakuierungszeit und kurze Prozesslängen für effiziente und wirtschaftliche Ergebnisse. Die Kammer besteht aus Borosilikatglas welches eine besondere chemische Beständigkeit und damit eine hohe Reinheit aufweist. Durch diese Eigenschaften ist die Atto optimal für Anwendungen in der Medizintechnik sowie Labor- und Forschungsarbeiten, bei denen hohe Ansprüche an Reinheit eingehalten werden müssen. Zusätzlich verhindert eine außerhalb der Kammer sitzende Elektrode, dass minimalste Verunreinigung durch Absputtern des Materials entstehen. Mit der durchdachten Konstruktion der Atto, unterstützt Diener electronic bei den anspruchsvollen Reinheitsanforderungen und bietet Voraussetzung für sichere und reproduzierbare Prozesse.
Wirtschaftliche Low Cost Anlage
Das Plasmasystem Atto kombiniert modernste Plasmatechnologie mit einem platzsparendem Gehäuse und einer einfach bedienbaren Benutzeroberfläche. Durch ihre kompakte Bauweise lässt sich die Atto schnell in eine Labor- und Forschungsumgebung integrieren. Sie bietet eine leistungsstarke Plasmabehandlung auf einer platzsparenden Basis. Das Plasmasystem Atto präsentiert als wirtschaftliche Lösung, einen einfachen Einstieg in die professionelle Plasmaoberflächenbehandlung. Die Kombination aus niedrigen Investitions- und Betriebskosten mit beständiger Prozessqualität ermöglichen wirtschaftliches Arbeiten in anspruchsvollen Anwendungen.
Steuerung
Trotz modernster Technologie ist die Atto ausgestattet mit überschaubaren Steuerungsoptionen darunter auch der Basic PC-Steuerung, welche eine einfache Bedienung ermöglicht. In der Steuerungseinheit mit Windows CE sind alle Prozesse mit voreingestellten Programmen hinterlegt, sodass keine Vorkenntnisse oder umfangreiche Schulungen nötig sind. Sie bietet eine Einsicht in den Ist-Zustand sowie eine übersichtliche Programmverwaltung. Die einfache Bedienung erleichtert den Einstieg in die Plasmatechnologie und bietet ein effizientes Arbeiten.
Technische Daten
Gehäuseabmessungen
Tischgerät
Steuerung
Low Cost PC (Windows CE)
Halbautomatisch
Vakuumkammer
Borosilikatglas, Scharniertüre
⌀ 211 mm x
T 300 mm; Volumen ca. 10 Liter
Generator
40,00 kHz | Leistung 0 - 200 W
13,56 MHz | Leistung 0 - 300 W
Gaszufuhr
MFC (Mass flow controller)
Nadelventil
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Technische Änderungen vorbehalten.
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Atto
Halbautomatisch kHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 425 mm x H 257 mm x T 420 mm
Steuerung
Halbautomatisch
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 211 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
10
Liter
Generator
40,00 kHz | Leistung 0 - 200 W
Gaszufuhr
2 x Nadelventil
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Atto
Halbautomatisch MHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 525 mm x H 257 mm x T 420 mm
Steuerung
Halbautomatisch
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 211 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
10
Liter
Generator
13,56 MHz | Leistung 0 - 300 W
Gaszufuhr
2 x Nadelventil
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Atto
PC kHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 525 mm x H 257 mm x T 420 mm
Steuerung
Low Cost PC
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 211 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
10
Liter
Generator
40,00 kHz | Leistung 0 - 200 W
Gaszufuhr
2 x MFC (Mass flow controller)
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Atto
PC MHz
Gehäuseabmessungen
TischgerätB 525 mm x H 257 mm x T 420 mm
Steuerung
Low Cost PC
Vakuumkammer
Borosilikatglas
,
Scharniertüre
⌀ 211 mm x
T 300 mm
Volumen ca.
10
Liter
Generator
13,56 MHz | Leistung 0 - 300 W
Gaszufuhr
2 x MFC (Mass flow controller)
Elektrode
Außerhalb der Vakuumkammer
Druckmessung
Pirani Sensor
Spannungsversorgung
230 V | 16 A
Gehäuseabmessungen
Steuerung
Vakuumkammer
Generator
Gaszufuhr
Elektrode
Druckmessung
Spannungsversorgung
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FAQ Häufig gestellte Fragen
Welche Oberflächen kann mit der Plasmaanlage Atto aktiviert werden?
Mit der Plasmaanlage Atto von Diener electronic lassen sich folgende Oberflächen wie Kunststoffe, Metalle, Gläser, Keramiken und Textilien aktivieren.
Was kann mit der Atto alles behandelt werden?
Mit der Atto von Diener electronic können alle Materialien die vakuumbeständig sind behandeln werden.
Kann mit der Anlage Atto beschichtet werden?
Mit der Anlage Atto aus dem Low-Cost-Bereich, ist es leider nicht möglich die Oberfläche zu beschichten.
Kann mit der Anlage Atto geätzt werden?
Mit der Anlage Atto aus dem Low-Cost-Bereich, ist es leider nicht möglich die Oberfläche zu ätzen.
Welche Gase können bei der Atto eingesetzt werden?
Bei der Atto sowie generell im Niederdruckplasma können folgende Gase eingesetzt werden: O2, N2, Ar, Raumluft, CO2, H2O-Dampf und Formiergas
Kann mit der Atto temperaturempflindliche Bauteile behandelt?
Ja, da es sich um ein kaltes Plasma handelt, ist die Niederdruckplasmaanlagen Atto von Diener electronic geeignet für temperaturempfindliche Bauteile.
Kann die Anlage Atto magnetische Bauteile behandelt?
Auch magnetische Bauteile lassen sich in der Vakuumkammer der Atto von Diener electronic gut behandeln.
Können ESD-empfindliche Bauteile mit der Atto behandelt werden?
Ja, mit Niederdruckplasma der Atto ist dies möglich. Auf Anfrage kann einen Versuch in unserer Prozessabteilung durchgeführt werden.
Welcher typische Druckbereich ist in der Regel bei der Atto in der Vakuumkammer?
Der typische Druckbereich der Atto liegt bei einstellbaren 0,1 - 1,0 mbar, je nach definiertem Niederdruckplasmaprozesse.
Wie hoch ist die typische Prozesstemperatur bei der Atto in der Vakuumkammer?
Bei der Atto von Diener electronic liegt normalerweise die Temperatur bei Raumtemperatur bis ca. 80 °C - in Abhängigkeit von Bauteil, Kammerart, Prozesszeit und der Beladungsmenge. Höhere Temperaturen können auf Anfrage bei Diener electronic mittels Heizelemente erreicht werden.
Welche Anbindungsmöglichkeiten in Bezug auf die Software sind bei der Atto möglich?
Bei der Low-Cost Steuerung von Atto ist eine Anbindung nicht möglich.
Welche Frequenz liegt bei der GHz-Anlage Atto an?
Die Generatoren zur GHz-Anlage Atto arbeiten mit ISM-Frequenz 2,45 MHz - vergleichbar mit der Intensität wie bei einer Mikrowelle. Fragen Sie bitte nach den Sicherheitsbestimmungen für Personen mit Herzschrittmacher.
Ist die Plasmaanlage Atto für Dauerbetrieb geeignet?
Die Low Cost-Anlage Atto für Forschung und Technik, ist nicht für den Dauerbetrieb geeignet.
Sind Abluftfilter bei der/dem Atto nötig?
Ja, alle Anlagen müssen zwingend an eine gute Abluft angeschlossen werden vollkommen egal welches Gas verwendet wird. Es entstehen Stickoxide, Abgase, feine Öl-Nebel (bei Öl Pumpen), usw., welche nicht eingeatmet werden dürfen, zudem sind die Gase oft sauer, somit begünstigen sie das Rosten von umliegenden Teilen, Maschinen, Anlagen.
