Lexikon der Oberflächentechnik

Parallelplattenreaktor

Auch Planar-Reaktor genannt.

Die Elektrodenanordnung im Reaktor ist einer der Parameter zur Steuerung eines Plasmaprozesses. Der Parallelplattenreaktor ist bei HF-Anregung im LF (40 kHz)- oder RF (13,56 MHz)-Bereich anwendbar. Die Elektroden sind parallel wie im Plattenkondensator angeordnet. Üblicherweise liegt an einer der Elektroden das potential des Generators, an der anderen Masse an. Das elektrische Feld zwischen den Platten und damit auch das Plasma ist weitgehend homogen und senkrecht zu den Platten gerichtet. Die Parallelplattenanordnung ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn man die Wirkung des Ionenbeschusses auf ein Substrat für Ionenätzen nutzen will, da die Ionenbeschleunigung parallel zum elektrischen Feld und damit senkrecht zur Arbeitselektrode erfolgt.

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