Reactor de placas paralelas

También se denomina reactor planar. La disposición de los electrodos en el reactor representa uno de los parámetros para controlar un proceso con plasma. El reactor de placas paralelas puede utilizarse en caso de excitación de alta frecuencia en los rangos de baja frecuencia (40 kHz) o radiofrecuencia (13,56 MHz). Los electrodos están dispuestos en paralelo, como en el condensador de placas. Por lo general, en uno de los electrodos se encuentra el potencial del generador, mientras que el otro es el electrodo de masa. El campo eléctrico entre las placas y, en consecuencia, también el plasma resultan muy homogéneos y están orientados en perpendicular a las placas. La disposición de las placas paralelas resulta especialmente ventajosa si se desea aprovechar el efecto del bombardeo de iones sobre un sustrato para el grabado iónico, ya que los iones se aceleran en paralelo al campo eléctrico y, por lo tanto, en perpendicular al electrodo de trabajo.

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