Reattore a piastre parallele

Denominato anche reattore planare. La disposizione degli elettrodi nel reattore costituisce uno dei parametri di controllo di un processo al plasma. Il reattore a piastre in parallelo può essere utilizzato per l'eccitazione RF nella gamma LF (40 kHz) o RF (13,56 MHz). Gli elettrodi sono disposti in parallelo come nel condensatore a piastre. Normalmente, il potenziale del generatore è collegato a uno degli elettrodi e la massa all'altro. Il campo elettrico tra le piastre e di conseguenza anche il plasma sono in prevalenza omogenei e perpendicolari alle piastre. La disposizione parallela delle piastre è particolarmente vantaggiosa se l'effetto del bombardamento ionico su un substrato viene utilizzato per acidatura ionica , perché l'accelerazione degli ioni è parallela al campo elettrico e perpendicolare all'elettrodo di lavoro.

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