Глоссарий технологии обработки поверхностей

Реактор с параллельными пластинами

40 кГц) или высокочастотном (13,56 МГц) диапазоне. В реакторе электроды располагаются параллельно, как в пластинчатом конденсаторе. Обычно на одном из электродов присутствует потенциал генератора, а другой является массой. Электрическое поле между пластинами и, значит, плазма очень однородны и располагаются перпендикулярно пластинам. Параллельная компоновка пластин способствует использованию действия бомбардировки ионамисубстрата при ионном травлении. Это обусловлено тем, что ионы ускоряются параллельно электрическому полю, т.е. перпендикулярно рабочему электроду.

+49 7458 99931-0

Поговорите с экспертом

info@plasma.com

Напишите нам

Запросить предложение

Вы точно знаете, что ищете