Réacteur à plaques parallèles

Également appelé réacteur planaire. La disposition des électrodes dans le réacteur est l'un des paramètres de commande d'un processus plasma. Le réacteur à plaques parallèles peut être utilisé pour l'excitation HF dans la plage LF (40 kHz ou13,56 MHz. Les électrodes sont disposées en parallèle comme dans le condensateur à plaques. Habituellement, le potentiel du générateur est relié à l'une des électrodes et la masse à l'autre. Le champ électrique entre les plaques et donc aussi le plasma est largement homogène et perpendiculaire aux plaques. La disposition parallèle des plaques est particulièrement avantageuse si l'effet du bombardement d'ions sur un substrat doit être utilisé pour la gravure ionique  car l'accélération ionique s'effectue parallèlement au champ électrique et donc perpendiculairement à l'électrode de travail.

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