Fotolithographie

Übertragung einer geometrischen Struktur auf ein Substrat über eine Maske, wobei die Maske aus Fotolack besteht. Der Fotolack, entweder ein Positivresist oder ein Negativresist wird vollflächig auf das zu ätzende Substrat aufgetragen und anschließend mit der zu ätzenden geometrischen Struktur belichtet. Durch anschließendes Entwickeln werden die belichteten (Positivlack) oder unbelichteten (Negativlack) Bereiche aufgelöst und die Substratschicht wird in diesen Bereichen freigelegt. Bei vollflächiger Bearbeitung der gesamten Oberfläche beispielsweise durch Reaktives Ionenätzen (RIE) werden nur die freigelegten Bereiche des Substrats verändert.

 

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