Fotolack

Fotoresist, flüssiger oder fester Film, der sich nach dem Belichten mit vorzugsweise UV-Licht entwickeln lässt. Positivresiste werden durch Belichtung soweit entnetzt bzw. chemisch verändert (Änderung des Säurecharakters), dass die belichteten Stellen durch spezielle Entwickler (chlorierte Kohlenwasserstoffe, verdünnte Natronlauge oder Sodalösung, warmes Wasser u. ä.) herausgelöst werden. Bei Negativresisten ist der Vorgang umgekehrt, die belichteten Stellen werden stärker vernetzt. Je nach Dicke und chemischem Verhalten unterscheidet man Galvano- oder Ätzresiste.
Beim Plasmaätzen feiner Strukturen werden von Fotolacken abgedeckte Bereiche nicht geätzt. Fotolacke selbst können durch Plasmaätzprozesse entfernt werden.