Fotoresist

Flüssiger oder fester Film, der sich nach dem Belichten, am besten mit UV-Licht, entwickeln lässt. Positivresiste werden durch Belichtung soweit entnetzt bzw. chemisch verändert (Änderung des Säurecharakters), dass die belichteten Stellen durch spezielle Entwickler (chlorierte Kohlenwasserstoffe, verdünnte Natronlauge oder Sodalösung, warmes Wasser u. ä.) herausgelöst werden. Bei Negativresisten ist der Vorgang umgekehrt, die belichteten Stellen werden stärker vernetzt. Je nach Dicke und chemischem Verhalten unterscheidet man Galvano- oder Ätzresiste.
Beim Ätzen feiner Strukturen werden von Fotolacken abgedeckte Bereiche nicht geätzt. Fotoresists selbst können durch Plasmaätzen entfernt werden.