Fotolitografia

Trasferimento di una struttura geometrica su un substrato tramite una maschera, dove la maschera è composta da fotoresist . Il fotoresist, sia positivo sia negativo viene applicato su tutta la superficie di acidatura del substrato e di seguito esposto alla struttura geometrica da incidere. Con lo sviluppo successivo, le aree esposte (resist positivo) o non esposte (resist negativo) si dissolvono e viene esposto il substrato. In caso di lavorazione su tutta la superficie, ad esempio mediante acidatura ionica reattiva (RIE), vengono modificate solo le aree esposte del substrato.

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