Photolithographie

Transfert d'une structure géométrique sur un substrat à l'aide d'un masque, ce dernier étant constitué d'une photoréserve. La photoréserve, qu'il s'agisse d'une résine photosensible positive ou d'une résine photosensible négative, est appliquée sur toute la surface du substrat à graver, puis exposée avec la structure géométrique à graver. Les zones exposées (résine positive) ou non exposées (résine négative) sont dissoutes par le développement ultérieur et la couche de substrat est mise à nu dans ces zones. Si toute la surface est traitée, par exemple par gravure ionique réactive (RIE), seules les zones dégagées du substrat sont modifiées.