Maske

Strukturierte Folie oder Beschichtung auf einer Oberfläche oder einem Substrat. Die Struktur der Maske erlaubt eine örtliche Bearbeitung des Substrats. In der Mikroelektronik werden Masken mit feinsten Strukturen in erster Linie durch Fotolithographie erzeugt. Durch die Durchbrüche in der Fotolack-Schicht wird das Substrat insbesondere durch Reaktives Ionenätzen (RIE) bearbeitet.

Die Fotolackmaske selbst wird nach der Strukturierung durch Plasmaätzen entfernt.

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