Laca fotosensible

En inglés, photoresist. Película líquida o sólida que se desarrolla tras insolación, preferiblemente, con luz UV. En las lacas fotosensibles positivas, la insolación provoca pérdida de reticulación o alteración química (modificación de la acidez), hasta el punto de producir elución en los lugares insolados con reveladores especiales (hidrocarburos clorados, sosa cáustica diluida o solución de soda, agua caliente, etc.). En las lacas fotosensibles negativas, se da el proceso inverso: se produce una mayor reticulación en los lugares insolados. En función del grosor y el comportamiento químico, se distingue entre lacas fotosensibles para galvanización o grabado.
Durante el grabado con plasma de estructuras finas, el grabado no afecta a las zonas cubiertas con lacas fotosensibles. Las propias lacas fotosensibles pueden eliminarse con procesos de grabado con plasma.