Positiv-Lack

Fotoresist, Polymerer Lack, der nach dem Trocknen nahezu unlöslich ist. Der Lack enthält jedoch ein strahlungsempfindliches Additiv, einen sogenannten Fotoinitiator. Dieser wandelt sich unter Lichteinfluss in Kohlensäure H2COum, wodurch die Lackschicht in schwach alkalischen Lösungen sehr gut löslich wird.  Nach einer Belichtung und anschließenden Entwicklung werden daher nur die belichteten Bereiche entfernt, die unbelichteten bleiben stabil.  

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