Target

Englischer Ausdruck für "Ziel". Das Target ist das Ziel des Ionenbeschusses beim Sputtern. Aus dem Target werden durch physikalisches Ätzen Atome und Moleküle herausgeschlagen und in die Gasphase überführt werden. Diese Teilchen kondensieren beim PVD-Verfahren auf dem Substrat und bilden dort eine Beschichtung.