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进行任何其他 等离子处理 之前,必须先进行 等离子清洗 ,这样便可始终提供纯净的材料表面。为了实现完整彻底的清洗,提供了以下工艺流程:
通常情况下, 低压等离子设备 可用于各种 等离子工艺流程 。一个主要的等离子工艺流程便是 清洗。原则上,在进行所有其他等离子工艺流程之前始终要进行清洗。故此,通用的低压等离子设备进行了必要的配备,以确保可以执行基本的清洗过程,特别是在氧气等离子体中进行的清洗。故此,此类用于清洗工艺流程的低压等离子设备也被称为等离子清洗器。
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