Atto (Low Cost / Low Budget)

低压等离子设备(等离子清洗器)

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技术数据

10.5 升的  Low Cost 等离子体实验室设备 ATTO  配有手动型、PC 和 PCCE 控制系统,主要用于以下领域:

小批量生产、分析 (REM, TEM)、医疗技术、灭菌、研究和开发部门、考古、纺织技术、塑料技术

外壳

  • 宽 425 mm、高 275 mm、深 450 mm
  • 宽 525 mm、高 257 mm、深 450 mm

真空腔室

玻璃(硼硅或石英玻璃)材质
∅ 211 mm,长 300 mm

装载件

  • 产品支架:铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃

腔室容积

  • 约 10.5 升

气体供给

  • 2 个由针型阀控制的气体通道
  • MFC

发生器

  • 40 kHz/200 W
  • 13.56 MHz/300W

真空泵

  • 抽吸性能:最小 3 m3/h

部件支架

  • 1 个产品支架

控制系统

  •     手动
  •     PCCE 控制系统 (Microsoft Windows CE)
  •     PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)
  •     旋转开关
Plasma Cleaner - Atto 1 - Plasmaanlage

型号 1 基本设备类型 A 包括手动控制系统

发生器
(40 kHz, 0 - 200 W)
真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,盖板,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
针型阀

Plasma Cleaner - Atto 2 - Plasmaanlage

型号 2 基本设备类型 B 包括旋转开关控制系统

发生器
(40 kHz, 0 - 200 W)
真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,盖板,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
针型阀

Plasma Cleaner - Atto 3 - Plasmaanlage

型号 3 基本设备类型 B 包括 Basic PC 控制系统 (Windows CE)

发生器
(40 kHz, 0 - 200 W)
真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,盖板,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
MFC

Plasma Cleaner - Atto 4 - Plasmaanlage

型号 4 基本设备类型 C 包括外部 Low Cost PC 控制系统 (Windows 10 Prof.)

发生器
(40 kHz, 0 - 200 W)
真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,盖板,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
MFC

Plasma Cleaner - Atto 5 - Plasmaanlage

型号 5 基本设备类型 D 包括 Low Cost PC 控制系统 (Windows 10 IoT)

发生器
(40 kHz, 0 - 200 W)
真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,盖板,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
MFC

Plasma Cleaner - Atto 6 - Plasmaanlage

型号 6 基本设备类型 A 包括手动控制系统

发生器
(13.56 MHz,0 - 300 W,自动匹配)
真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
针型阀

Plasma Cleaner - Atto 7 - Plasmaanlage

型号 7 基本设备类型 B 包括旋转开关控制系统

发生器
(13.56 MHz,0 - -300 W,自动匹配)
带铰链门而非盖板的真空腔室
(圆形,硼硅玻璃,盖板,约 Ø 211 mm,
长度:300 mm,容积:约 10.5 升)
气体供
针型阀

+49 7458 99931-0

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