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Tetra 100 等离子系统主要应用于以下领域：
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型号 1，标准设备 基本设备类型 A 中的 BASIC PC 控制系统真空腔室，矩形，不锈钢，带铰链的门， （宽：400 mm，深：625 mm，高：400 mm）气体供给： MFC
型号 2，标准设备 基本设备类型 A 中的 FULL PC 控制系统真空腔室，矩形，铝，带铰链的门， （宽：400 mm，深：625 mm，高：400 mm）气体供给： MFC
型号 3，标准设备 基本设备类型 A 中的 BASIC PC 控制系统 （宽 850 mm x 深 800 mm x 高 1700 mm）真空腔室，矩形，铝，带铰链的门 （宽 400 mm，深：625 mm，高：400 mm）气体供给： MFC
型号 4，腐蚀性气体设备（例如：用于含氟的工艺气体） 基本设备类型 A 中的 FULL PC 控制系统 （宽 600 mm x 深 800 mm x 高 1700 mm）真空腔室，矩形，不锈钢，带铰链的门， （宽：400 mm，深：625 mm，高：400 mm）气体供给： 针型阀
型号 5，等离子体聚合设备 基本设备类型 A 中的 BASIC PC 控制系统 （宽 600 mm x 深 800 mm x 高 1700 mm）真空腔室，矩形，不锈钢，带铰链的门 （宽：400 mm，深：625 mm，高：400 mm）气体供给： MFC
型号 6，等离子体聚合设备 基本设备类型 A 中的 FULL PC 控制系统 （宽 600 mm x 深 800 mm x 高 1700 mm）真空腔室，矩形，不锈钢，带铰链的门 （宽：400 mm，深：625 mm，高：400 mm）气体供给： MFC
等离子体技术可为所有类型的污染物、所有基材和所有后续处理提供解决方案。此外，还能分解由分子构成的残留污染物。
更多信息
表面具有良好的润湿性，是确保在 涂漆、粘接、印刷 或者 键合 时与结合配偶体 粘附 的前提条件。
等离子体技术可用于各向异性和各向同性蚀刻。通过化学蚀刻进行各向同性蚀刻，通过物理蚀刻进行各向异性蚀刻。
使用低压等离子体，可以改良具有不同涂层的工件。为此，会将气态和液态原材料输送到真空腔室中。
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频率：
所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型
备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、法拉利笼、等离子体聚合配件、测试墨水、氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM 样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装，包括培训。可应要求提供的其他选项。
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