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低成本低壓等離子體等离子设备 Zepto ONE

适用于实验室和研发的紧凑型Low Cost等离子设备

Zepto ONE 的腔室容积约为 2 升,是进入专业等离子表面处理领域的经济实惠之选。它为实验室、研究机构和研发部门提供了紧凑且经济高效的解决方案。

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适用于精密实验室应用的紧凑型等离子设备

Zepto ONE 将紧凑的结构、简便的操作和可靠的等离子体技术融合于一款经济实惠的 Low Cost 等离子体设备中。其腔室容积约为 2 升,非常适合处理小型部件、材料样品及研究应用。

半自动控制系统使用户能够快速掌握低压等离子体技术,并在无需大量培训的情况下实现可重复的工艺流程。因此,该设备既适用于研究项目,也适用于新制造工艺的开发。

典型应用包括超精细清洗和表面活化,以及为后续加工步骤对敏感材料进行预处理。

凭借其紧凑的结构设计,Zepto ONE 即使在小型实验室中也能轻松安置,并为专业等离子体表面处理提供了经济实惠的入门方案。

清潔

低成本低壓等離子體 實驗室設備 Zepto ONE 為各類基材的所有表面提供無菌微細清潔解決方案。等離子清潔技術能去除所有有機殘留物,且不會對元件造成化學或熱應力。

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活化

結合夥伴須承擔責任的前提,是表面須具備良好的潤濕性。在 低成本低壓等離子體 設備 Zepto ONE 中,等離子體活化會在清潔完成後立即進行,並能提高表面能。

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2升 腔室

Zepto ONE等离子设备配备了2升的腔室容积,特别适合处理较小样品。紧凑型工艺腔室可确保快速抽真空和短工艺周期,从而实现高效且经济的结果。 腔室由硼硅酸盐玻璃制成,具有出色的化学耐受性,从而确保了极高的纯度。凭借这些特性,Zepto ONE 特别适用于医疗技术以及实验室和研究工作,这些领域对纯度有极高的要求。 此外,位于腔室外部的电极可有效防止因材料溅射而产生的微量污染。凭借 Zepto ONE 周到的设计,Diener electronic 能够满足严苛的纯度要求,并为安全且可重复的工艺奠定基础。

经济实惠的Low Cost设备

Zepto ONE 等离子系统将最先进的等离子技术与紧凑的机身及直观易用的用户界面相结合。凭借其紧凑的设计,Zepto ONE 可快速集成到实验室和研究环境中。 它在节省空间的基础上提供了强大的等离子处理能力。作为一种经济实惠的解决方案,该等离子设备为专业等离子表面处理提供了便捷的入门途径。低投资成本和低运营成本与稳定的工艺质量相结合,确保了在高要求应用中实现经济高效的操作

直观的操作

尽管采用了最先进的技术,Zepto ONE仍配备了一个简洁明了的半自动控制系统,可实现直观的操作。 所有工艺参数均可手动轻松、快速地进行设置,因此无需具备相关知识或接受大量培训。简单的操作不仅让用户能够轻松入门等离子技术,还能提高工作效率。 

技术数据

外壳尺寸

台式

宽度
320 mm
高度
190 mm
深度
360 mm

控制装置

半自动

真空室

硼硅玻璃, 带盖
⌀ 105 mm x 深 200 mm; 卷 约 2 升

发电机

80.00 千赫 | 功率输出 0 - 50 W

13.56 兆赫 | 功率输出 0 - 50 W

供气

针型阀

电极

真空室外部

压力测量

皮拉尼传感器

电源

230 V | 16 A

保留技术变更权利。

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表面处理服务

型号变体

Zepto ONE

半自动 kHz

外壳尺寸
台式

宽 320 mm x 高 190 mm x 深 360 mm

控制装置

半自动

真空室

硼硅玻璃 , 带盖
⌀ 105 mm x 深 200 mm
卷 约 2 升

发电机

100.00 千赫 | 功率输出 0 - 30 W

供气

针型阀

电极

真空室外部

电源

230 V | 16 A

Zepto ONE

半自动 MHz

外壳尺寸
台式

宽 320 mm x 高 190 mm x 深 360 mm

控制装置

半自动

真空室

硼硅玻璃 , 带盖
⌀ 105 mm x 深 200 mm
卷 约 2 升

发电机

13.56 兆赫 | 功率输出 0 - 30 W

供气

针型阀

电极

真空室外部

电源

230 V | 16 A

外壳尺寸
控制装置
真空室
发电机
供气
电极
电源

FAQ 常见问题

Zepto ONE等离子设备适合连续运行吗?

这款用于科研和技术的Low Cost设备Zepto ONE,不适合连续运行。

Zepto ONE可以用来处理哪些内容?

使用Diener electronic的Zepto ONE,可以处理所有耐真空的材料。

可以使用Zepto ONE设备进行涂层处理吗?

遗憾的是,使用这款来自Low Cost系列的Zepto ONE设备,无法对表面进行涂层处理。

可以用Zepto ONE这套设备进行蚀刻吗?

遗憾的是,使用这款来自Low Cost系列的Zepto ONE设备,无法进行表面蚀刻。

Zepto ONE中可以使用哪些气体?

在Zepto ONE中以及一般低压等离子体中,可使用以下气体:O₂、N₂、Ar、室内空气、CO₂、H₂O蒸汽和甲烷气 

Zepto ONE能否处理对温度敏感的部件?

是的,由于这是冷等离子体,因此Diener electronic的低压等离子体设备Zepto ONE适用于对温度敏感的元器件。

Zepto ONE 该设备能否处理磁性部件?

Diener electronic 的 Zepto ONE 真空腔室也能很好地处理磁性元件。

对静电敏感的元件可以使用Zepto ONE进行处理吗?

是的,使用Zepto ONE的低压等离子体可以实现这一点。如有需要,我们的工艺部门可为您进行测试。

Zepto ONE的真空室中,通常具有什么样的典型压力范围?

该Zepto ONE的典型压力范围为可调的0.1至1.0毫巴,具体取决于所设定的低压等离子体工艺。 

Zepto ONE在真空室中的典型工艺温度是多少?

Diener electronic 的 Zepto ONE 通常在室温至约 80 °C 范围内运行——具体温度取决于组件、腔室类型、工艺时间和装载量。如需更高温度,可向 Diener electronic 提出申请,通过加热元件实现。

Zepto ONE在软件方面支持哪些连接方式?

对于Zepto ONE的Low Cost控制系统,无法进行连接。

Zepto ONE是否需要排气过滤器?

是的,无论使用何种燃气,所有设备都必须连接到有效的排气系统。 这些设备会产生氮氧化物、废气、细微的油雾(对于燃油泵而言)等,这些物质绝不能吸入;此外,这些气体通常呈酸性,因此会加速周围部件、机器和设备的锈蚀。

使用等离子设备Zepto ONE可以活化哪些表面?

使用Diener electronic公司的等离子设备Zepto ONE,可对塑料、金属、玻璃、陶瓷和纺织品等表面进行活化处理。

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