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低壓等離子體等离子系统 Tetra 2800

适用于大尺寸部件和特殊应用的等离子处理设备

2827 升的腔体容积使 Tetra 2800 等离子设备特别适用于尺寸超大、超长或结构复杂的工件,同时也满足工业生产中对高处理产能的需求。因此,该设备为高要求零部件的等离子处理提供了最佳条件。

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满足高要求工业应用的最大容量

2827 升的宽敞腔室容积,使 Tetra 2800 等离子设备能够为大型部件、长型工件或完整组件提供充足的空间。该设备专为那些因部件尺寸或工艺要求而无法满足标准设备应用场景的情况而设计。

模块化设备设计允许对真空腔室、工艺设备及控制系统进行个性化配置。因此,该等离子系统可精准匹配您的生产需求。

根据不同型号,可提供配备工艺监控、文档记录和归档功能的现代化 PC 控制系统。可选的制造执行系统 (MES) 集成功能支持数字化制造,并确保工艺流程的全程可追溯性。

Tetra 2800 适用于所有常见的低压等离子体工艺,可在各种表面的清洁、活化、蚀刻和功能化过程中确保结果的可重复性。

清潔

低壓等離子體 系統 Tetra 2800 提供適用於所有表面、各種基材及後處理工序的精密清潔解決方案。等離子清潔技術能徹底清除所有有機殘留物,且不會對元件造成化學或熱應力。

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活化

在噴漆、黏合、印刷或 bonding 過程中,要使結合夥伴產生作用,表面必須具備良好的潤濕性。低壓等離子體 設備 Tetra 2800 所進行的等離子活化處理,能形成極性結合夥伴並提高表面能。

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鍍膜

低壓等離子體 設備 Tetra 2800 亦可透過鍍膜來改性表面。在等離子鍍膜過程中,可沉積各類疏水、親水、保護或絕緣層。

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蝕刻

低壓等離子體 設備 Tetra 2800 所採用的等離子體技術,可進行各向異性與各向同性蝕刻。藉此可在表面形成奈米結構,以增大表面積並提升附著力。

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2827升 腔室

低壓等離子體 型 Tetra 2800 设备配备了 2827 升的超大腔室容积,特别适合处理工业领域的大型零部件。为此,设备配备了一个圆形铝制腔室,可确保工业流程的安全与稳定。 宽敞的腔室尺寸可同时处理复杂或多个部件,因此 Tetra 2800 非常适合工业生产过程和批量应用。得益于腔室的圆形设计,低壓等離子體 Tetra 2800 为各种应用提供了多种处理方案。

电极

随着技术的进步,要求也在不断提高。选择Diener electronic,企业将受益于极高的投资安全性,因为低壓等離子體 Tetra 2800设备能够随着未来需求的发展而不断升级。 凭借灵活的模块化系统,可根据具体应用选择等离子系统Tetra 2800,并决定采用单层或多层电极。对于在腔室内占据较大空间的复杂大型部件,建议选用能确保均匀处理的电极。 对于分层放置的众多小型部件,可安装多层电极、侧面电极或带可拆卸篮筐的旋转鼓式电极,以确保在Tetra 2800等离子处理系统的各种应用场景中均能实现均匀处理。

控制

在对生产要求极高的工业领域,该控制元件与运行Windows IoT系统的完整PC配合使用是理想之选。由此,等离子设备Tetra 2800可实现工艺存档、报警列表、远程诊断和网络连接。 工艺的透明度及其可追溯性为高效且经济的生产奠定了基础。多种硬件配置为等离子系统Tetra 2800的各项工艺流程提供了最大的灵活性。 通过 PI/PID 压力调节器,可实现压力稳定,从而确保工艺在任何时候都能精确可重复。借助全功能 PC 控制系统,正在运行的工艺流程得以更全面、更详细且更快速地呈现。

技术数据

外壳尺寸

Tetra 2800

宽度
600 mm
高度
1700 mm
深度
800 mm

控制装置

Basic PC (Windows CE)

Full PC (Windows 11 IoT Enterprise)

真空室

不锈钢, 铰链门
⌀ 1200 mm x 深 2500 mm; 卷 约 2827 升

发电机

80.00 千赫 | 功率输出 0 - 1000 W

80.00 千赫 | 功率输出 0 - 3000 W

13.56 兆赫 | 功率输出 0 - 600 W

13.56 兆赫 | 功率输出 0 - 1000 W

2.45 吉赫兹 | 功率输出 0 - 850 W

供气

MFC (Mass flow controller)

电极

单层电极

多层电极

压力测量

皮拉尼传感器

容积式压力表

电源

400 V | 16 - 125 A

保留技术变更权利。

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FAQ 常见问题

贵公司在大气压和低压环境下用于等离子体表面处理的设备、装置和系统,与其他市场竞争对手相比有何不同?

Diener electronic的等离子表面处理设备和系统与市场上的同类产品相比,具有以下区别: 

  • 凭借技术可靠性,我们在客户的各种生产环境中积累了超过20年的AD经验和30年的ND经验
  • 已安装的设备数量达数千套
  • 结构紧凑
  • PC型号支持现代通信协议,如Profinet、EtherCat等

低压等离子体还是大气压等离子体,哪种方案更优?

对于Diener electronic的表面处理,不存在“好与坏”之分,而是“适合或不适合该应用”。

请参阅我们的优缺点对照表

使用等离子设备Tetra 2800可以活化哪些表面?

使用Diener electronic公司的等离子设备Tetra 2800,可对塑料、金属、玻璃、陶瓷和纺织品等表面进行活化处理。

经过处理的零件应如何存放?

经过等离子处理后,建议不要将零件露天存放,因为它们会吸附灰尘、有机污染物和空气中的湿气。 

与露天存放相比,真空包装的零件保质期要长得多。

我们承接的加工委托业务中,所处理的零件均会与客户密切协商后进行包装,例如使用经过检测的无硅聚乙烯(PE)袋、防静电(ESD)包装,或客户提供的定制包装材料。

Tetra 2800系统在软件控制方面支持哪些连接方式?

通过全PC控制,Diener electronic的Tetra 2800等离子系统具有以下连接选项: 

  • 上级控制系统,例如通过 Profinet 连接 
  • MES系统,例如通过OPC UA 
  • 通过 ODBC 连接数据库 

Tetra 2800可以用来处理哪些内容?

使用Diener electronic的Tetra 2800,可以处理所有耐真空的材料。

使用Tetra 2800系统进行涂覆时,每次能涂覆多少?

借助Diener electronic公司的Tetra 2800系统,可实现低至微米级(< 1微米)的涂层沉积。

Tetra 2800中可以使用哪些气体?

在Tetra 2800中以及一般低压等离子体中,可使用以下气体:O₂、N₂、Ar、室内空气、CO₂、H₂O蒸汽和甲烷气 

Tetra 2800能否处理对温度敏感的部件?

是的,由于这是冷等离子体,因此Diener electronic的低压等离子体设备Tetra 2800适用于对温度敏感的元器件。

Tetra 2800 该设备能否处理磁性部件?

Diener electronic 的 Tetra 2800 真空腔室也能很好地处理磁性元件。

Tetra 2800在真空室中的典型工艺温度是多少?

Diener electronic 的 Tetra 2800 通常在室温至约 80 °C 范围内运行——具体温度取决于组件、腔室类型、工艺时间和装载量。如需更高温度,可向 Diener electronic 提出申请,通过加热元件实现。

Tetra 2800是否需要排气过滤器?

是的,无论使用何种燃气,所有设备都必须连接到有效的排气系统。 这些设备会产生氮氧化物、废气、细微的油雾(对于燃油泵而言)等,这些物质绝不能吸入;此外,这些气体通常呈酸性,因此会加速周围部件、机器和设备的锈蚀。

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我们很乐意为您提供帮助。您可以轻松使用我们的联系表单;或者直接通过电子邮件或电话与我们联系。

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