低壓等離子體等离子系统 Pico

Q: 是否需要排气过滤器？

是的，无论使用何种气体，所有设备都必须连接到良好的排气系统！ 运行过程中会产生氮氧化物、废气、细微油雾（油泵运行时）等，这些物质绝不能吸入；此外，这些气体通常呈酸性，因此会加速周围零部件、机器及设备的锈蚀。

适用于实验室和工业领域的模块化系统灵活设计

该设备容积为 4 - 8 升，非常适合对各种零部件进行等离子清洗、表面活化、等离子蚀刻和等离子镀膜。

紧凑型结构下的工艺容积

4 - 8 升的腔室容积为各种应用提供了充足的空间。Pico 等离子系统既可作为台式设备，也可作为立式设备进行安装，并能灵活地集成到现有的实验室或生产环境中。

根据具体需求，可选择半自动控制、Low Cost PC控制、基础PC控制乃至全PC控制等多种控制方案。其中全电脑控制模式支持对工艺流程进行个性化配置、工艺数据归档、报警列表管理，并可与制造执行系统（MES）对接。由此，等离子工艺变得透明、可重复且可完全记录。

Pico等离子系统适用于各种材料表面的清洗、活化、蚀刻和功能化处理，广泛应用于实验室、研发部门以及工业生产流程中。

清潔

低壓等離子體系統 Pico 提供適用於所有表面、各種基材及後處理工序的精密清潔解決方案。等離子清潔技術能徹底清除所有有機殘留物，且不會對元件造成化學或熱應力。

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活化

在噴漆、黏合、印刷或 bonding 過程中，要使結合夥伴產生作用，表面必須具備良好的潤濕性。低壓等離子體設備 Pico 所進行的等離子活化處理，能形成極性結合夥伴並提高表面能。

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鍍膜

低壓等離子體設備 Pico 亦可透過鍍膜來改性表面。在等離子鍍膜過程中，可沉積各類疏水、親水、保護或絕緣層。

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蝕刻

低壓等離子體設備 Pico 所採用的等離子體技術，可進行各向異性與各向同性蝕刻。藉此可在表面形成奈米結構，以增大表面積並提升附著力。

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4 - 8升腔室

Pico等离子设备配备4 - 8升的腔室容积，非常适合处理工业领域中体积较大的零部件。对于要求高纯度的应用，可提供硼硅酸盐玻璃或石英玻璃制成的腔室。这些腔室具有出色的耐化学腐蚀性，可确保极高的工艺纯度。针对特定应用，还可选择旋转鼓式腔体，以确保处理过程均匀一致。因此，等离子设备Pico可广泛应用于医疗技术或实验室工作领域。针对工业应用，我们提供不锈钢或铝制腔体，可确保工业工艺特别安全且稳定。

模块化系统

凭借多年的经验和经过验证的设计方案，Diener electronic 开发了一套独特的模块化系统，可据此灵活设计等离子设备 Pico。为了便于将其轻松集成到现有的生产环境中，等离子设备Pico可采用紧凑型台式机箱或坚固的立式机箱进行组装。腔室尺寸决定了机箱的选择以及相应的控制元件。最终打造出的是一套专为具有高要求应用场景的工业领域量身定制的生产设备。

控制

针对Pico台式设备的紧凑型结构，可选择LowCost、Basic PC以及操作直观的半自动控制系统。在半自动控制模式下，工艺参数可手动调节，因此操作无需任何专业知识。对于工业应用，配备预设工艺流程的简易型 Low Cost 或 Basic PC 控制系统的坚固立式机箱是理想之选。对于要求较高的生产环境，可选择全PC控制系统。该系统支持工艺存档、报警列表和网络连接功能。工艺的透明度及其可追溯性为高效且经济的生产奠定了基础。