离子蚀刻
根据具体应用情况，也称为“物理蚀刻”、“溅射”或“微喷砂”。
工艺气体是 氩气 或者其他 惰性气体，但是其离子不会形成任何自由基。蚀刻效果的基础是，通过电场中加速运动的电子所产生的动能将基材中的原子和分子分离出来。
应用用途：
- 表面的微结构化，例如，用于提高粘附性（“微喷砂”）
- 蒸镀源的轰击（“溅射”）
因为离子蚀刻 不 发生化学作用，其几乎适用于 所有 基材（几乎没有选择性）。等离子体的蚀刻效果几乎仅存在于离子的 加速度方向 。作用效果是强烈的 各向异性。
化学等离子蚀刻
所用的工艺气体，其分子在等离子体中主要分裂为自由基。蚀刻效果主要基于这些自由基与基材的原子或分子之间的反应，以及其到气态分解产物的转化。
重要应用用途：
- 分解氧化层
- 去除光刻胶（“剥离”）
- 矩阵灰化，用于分析
- PTFE 的蚀刻
- 半导体的结构化和微结构化
等离子蚀刻是非常有选择性的，也就是说，工艺气体和基材必须很好的进行匹配。蚀刻效果是具有 各向同性的，即：各个方向上的作用均是相同的。
反应性离子蚀刻
分子气体在等离子体中形成自由基和带正电荷的离子。如果通过使电场中的离子加速，并发射到基材上进行等离子体激发，则可以将自由基的反应作用以及离子的动能用于蚀刻过程。
反应性离子蚀刻综合了离子蚀刻和等离子蚀刻的效果：其具有一定的各向异性，而且还会对未与自由基发生化学反应的材料进行蚀刻。但是，最重要的是，蚀刻速率显著增加。通过离子轰击，基材分子会进入激发态，从而更加易于发生反应。
应用用途：
- 主要用于蚀刻半导体
PTFE 蚀刻
通过 Diener electronic 公司的 等离子体技术还可以粘合由于其表面能较低而被认为是“不可粘合”的 塑料。对于 聚丙烯 (PP)、聚乙烯 (PE) 或聚甲醛 (POM) 而言，将通过在氧气等离子体中进行活化来达到这一目的。对于表面能最低的塑料、PTFE 而言，单单一个活化工艺流程是不够的。在氧气等离子体中，氟-碳键是无法断裂的。
但是在氢气等离子体，氢自由基会和 PTFE 的氟原子结合，并断开碳键。氟化氢气体 将被抽出，留下不饱和碳化合物，极性液体分子可在其上极佳地积聚。
通过 PTFE 表面上的 褐色 变色情况，可以识别出是否进行了蚀刻。
等離子體
碳聚合物
氟
氫
FAQ 常见问题
能否对金属进行蚀刻？
从原理上讲，金属蚀刻是可行的，但只能使用高腐蚀性气体，而这些气体又可能导致金属被腐蚀。 为了增强蚀刻效果，可以对工件进行预热——或者如果等离子设备中安装了腔室加热装置，则可以进行连续加热。
哪些塑料可以进行蚀刻？
这些工艺主要用于对塑料表面进行蚀刻。对于POM、PPS和PTFE等难以涂装和粘接的塑料而言，蚀刻非常重要。通过增大表面积，可以获得更好的粘接力。典型的蚀刻气体包括氧气、氟气，以及氢气。
玻璃和陶瓷可以进行蚀刻吗？
在真空环境下对玻璃进行等离子体蚀刻既耗时又昂贵。离子化的气体粒子对玻璃的腐蚀速度很慢。玻璃主要由SiO₂组成，因此原则上可使用含氟烃（在添加氧气的情况下）进行蚀刻。
较低的刻蚀速率以及由此导致的漫长工艺时间，是导致此类工艺成本高昂的主要原因。
陶瓷（例如：Al₂O₃）可使用腐蚀性气体和非腐蚀性气体进行刻蚀。 腐蚀性气体包括所有含氟气体。氩气则属于非腐蚀性气体。一般而言，含氟气体的蚀刻速率高于其他非腐蚀性气体。Al₂O₃最适合用含氟气体进行蚀刻。
蚀刻时能去除多少？
根据基底的不同，使用低压等离子体设备可将表面蚀刻至低微米级（< 1 微米）。
蚀刻效果能持续多久？
在对表面进行蚀刻时，材料会被去除，从而使蚀刻效果永久保留。
什么可以进行蚀刻？
所有塑料和有机材料均可进行蚀刻。无机材料可根据要求处理。
