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Plasmasystem Femto
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低压等离子
Plasmasystem Nano
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低压等离子
Plasmasystem Pico
DE
13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem Tetra 30
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem Tetra 100
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低压等离子
Plasmasystem Tetra 150
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmacleaner Zepto
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmacleaner Atto
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低压等离子
Plasmacleaner Yocto
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低压等离子
Plasmasystem Tetra 45
DE
13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T320R
DE
13.10.2021
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低压等离子
Niederdruck Plasma-Anlagen
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05.10.2021
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低压等离子
Plasmacleaner Atto
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低压等离子
Plasmasystem Femto
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem Nano
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem Pico
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T30
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T45
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T100
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T150
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T320R
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低压等离子
Plasmasystem T2800
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmacleaner Yocto
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmacleaner Zepto
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13.10.2021
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低压等离子
Plasmasystem T2800
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13.10.2021
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低压等离子
Plasma APC 500
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常压等离子体
PlasmaBeam STANDARD
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常压等离子体
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13.10.2021
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常压等离子体
Atmosphärendruck Plasma-Anlagen
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04.11.2021
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常压等离子体
PlasmaBeam Duo
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常压等离子体
PlasmaAPC 500 DUO
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常压等离子体
PlasmaAPC 500
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常压等离子体
PlasmaBeam DUO PC
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常压等离子体
PlasmaBeam DUO PC
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27.10.2021
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常压等离子体
PlasmaBeam DUO
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常压等离子体
PlasmaBeam DUO
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常压等离子体
PlasmaBeam MINI
DE
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常压等离子体
PlasmaBeam MINI
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常压等离子体
PlasmaBeam Standard PC
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常压等离子体
PlasmaBeam QUATTRO
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常压等离子体
PlasmaBeam STANDARD
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常压等离子体
PlasmaBeam Duo
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13.10.2021
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常压等离子体
PlasmaBeam PC
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13.10.2021
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常压等离子体
Parylene P30
DE, EN
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聚对二甲苯
Parylene P6
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聚对二甲苯
Parylene P6
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聚对二甲苯
Parylene P35
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聚对二甲苯
Parylene P35
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聚对二甲苯
Parylene P120D
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01.12.2021
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聚对二甲苯
Parylene P120D
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01.12.2021
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聚对二甲苯
Parylene P300
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聚对二甲苯
Parylene P300
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01.12.2021
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聚对二甲苯
Parylene P260
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01.12.2021
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聚对二甲苯
Parylene P260
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01.12.2021
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聚对二甲苯
Parylene-Anlagen
DE, EN
01.12.2021
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聚对二甲苯
Vakuumsysteme und Kammern
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05.10.2021
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P110X120
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真空室和系统
Vacuumchamber VC P110X120
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P150X160
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真空室和系统
Vakuum chamber VC P150X160
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P240X240
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真空室和系统
Vacuum chamber VC P240X240
EN
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P305X300
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真空室和系统
Vakuum chamber VC P305X300
EN
15.10.2021
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P400X400
DE
15.10.2021
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真空室和系统
Vakuum chamber VC P400X400
EN
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P400X600
DE
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真空室和系统
Vacuum chamber VC P400X600
EN
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真空室和系统
Vakuumkammer VC P572X125
DE
15.10.2021
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真空室和系统
Vacuum chamber VC P572X125
EN
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真空室和系统
Vakuumkammer VC G120X65
DE
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真空室和系统
Vacuum chamber VC G120X65
EN
15.10.2021
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真空室和系统
Vakuumkammer VC M600
DE
15.10.2021
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真空室和系统
Vacuum chamber VC M600
EN
15.10.2021
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真空室和系统
Vakuumkammer VC M800
DE
15.10.2021
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真空室和系统
Vacuum chamber VC M800
EN
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真空室和系统
Vakuumkammer VC M1000
DE
15.10.2021
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真空室和系统
Vacuum chamber VC M1000
EN
15.10.2021
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真空室和系统
Vakuumkammer VC M1200
DE
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真空室和系统
Vacuum chamber VC M1200
EN
15.10.2021
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真空室和系统
DIN_EN_ISO_9001_DE_Diener_electronic.pdf
DE
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证书
DIN_EN_ISO_9001_GB_Diener_electronic.pdf
EN
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证书
Dodd_Frank_Act_DE_Konfliktmineralien.pdf
DE
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证书
Dodd_Frank_Act_GB_Conflict_Minerals.pdf
EN
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证书
REACH_Diener-electronic_DE.pdf
DE
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证书
REACH_Diener-electronic_EN.pdf
EN
23.08.2021
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证书
Zertifikat_13485_2020.pdf
DE
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证书
DIN EN ISO 9001
EN
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证书
DIN EN ISO 9001
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证书
Certificate_of_Design_Patent.pdf
CN
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专利
Patent.pdf
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专利
Patent Aluminium Profile
CN
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专利
Patent_Vakuum_Anlagen.pdf
CN
07.06.2021
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116.9 KB
专利
Patent_Vakuum_Generator.pdf
CN
07.06.2021
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专利
Patent_Nr.10115394.pdf
DE
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专利
Patent_Nr.201810324T4.pdf
TR
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专利
United_States_Patent.pdf
EN
07.06.2021
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专利
Urkunde_Marke_Nr.302018101378.pdf
DE
07.06.2021
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专利
Urkunde_Nr.19740097.pdf
DE
07.06.2021
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118.9 KB
专利
Urkunde_Nr.102014205695.pdf
DE
07.06.2021
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89.4 KB
专利
Urkunde_Nr.102014213942.pdf
DE
07.06.2021
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93 KB
专利
Urkunde_Nr.102016222311.pdf
DE
07.06.2021
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专利
ADP Indikatoren
DE, EN
05.02.2020
PDF
1353.1 KB
指示
Indikatoren
DE, EN
05.02.2020
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5000.8 KB
指示
| 101 08 456.0 | 表面预处理方法 |
| 101 15 394.5 | 具有空腔的机器组件和/或工艺技术设备和相关清洗方法 |
| 10 2007 021 386.9 | 短周期低压等离子设备 |
| 10 2007 024 090.4 | 等离子处理装置 |
| 10 2007 060 515.5 | 表面处理方法 |
| 10 2009 002 337.2 | 用于监控等离子体的指示器 |
| 10 2010 030 232.5 | 小部件涂覆设备 |
| 10 2013 110 628.5 | 将电路板安装到电缆束上和连接有电路板的电缆束上的方法 |
| 10 2013 215 118.7 | 等离子体指示剂 |
| 10 2013 226 814.9 | 带可单独运输的容器的等离子设备 |
| 10 2014 205 695.0 | 带连续控制系统的低压等离子设备 |
| 10 2014 213 942.2 | 真空设备，特别是等离子设备，具有完全封闭的腔室挤压型材 |
| 10 2015 200 520.8 | 用于轮胎成型的表面经过改性的加热箱 |
| 10 2016 109 343.2 | 用于提供高频能量的电路布线和用于产生放电的系统 |
| 10 2016 222 311.9 | 等离子体指示剂 |
| 196 30 193.9 | 用于密封或存放两个相对运动的部件的密封件和/或滑动轴承的表面处理方法 |
| 196 39 232.2 | 工件，特别是印刷电路板的无助熔剂金属化方法 |
| 197 02 125.5 | 用于产生反应气体和/或处理气体的方法和反应器 |
| 197 40 097.3 | 对较难活化的塑料部件进行表面处理的方法以及用于执行某个方法的设备 |
| 199 61 327.3 | 等离子体产生设备 |
