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生产设备 Tetra 320R 具有 320 升的腔室容积，并配有 PC 控制系统，可用于 批量生产（清洗、蚀刻和活化）：
开关柜： 宽 870 mm，高（带支脚） 1860 mm，深 1400 mm
腔室： ∅ 640 mm，深 1000 mm
腔室容积： 约 320 升
气体供给： 通过 MFC 控制的 2 个气体通道
发生器： 1 个 (80 kHz/ 1000 Watt)
控制系统： PC 控制系统 (Windows)
部件支架： 根据客户需求
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等离子体技术可为所有类型的污染物、所有基材和所有后续处理提供解决方案。此外，还能分解由分子构成的残留污染物。
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表面具有良好的润湿性，是确保在 涂漆、粘接、印刷 或者 键合 时与结合配偶体 粘附 的前提条件。
等离子体技术可用于各向异性和各向同性蚀刻。通过化学蚀刻进行各向同性蚀刻，通过物理蚀刻进行各向异性蚀刻。
使用低压等离子体，可以改良具有不同涂层的工件。为此，会将气态和液态原材料输送到真空腔室中。
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