Tetra 320R

低压等离子设备(等离子清洗器)

生产设备  Tetra 320R  具有 320 升的腔室容积,并配有 PC 控制系统,可用于 批量生产(清洗、蚀刻和活化):

技术数据

开关柜: 宽 870 mm,高(带支脚) 1860 mm,深 1400 mm

腔室: ∅ 640 mm,深 1000 mm

腔室容积: 约 320 升

气体供给: 通过 MFC 控制的 2 个气体通道

发生器: 1 个 (80 kHz/ 300 Watt)

控制系统: PC 控制系统 (Windows)

部件支架: 根据客户需求

等离子处理方法

材料清洗

等离子体技术可为所有类型的污染物、所有基材和所有后续处理提供解决方案。此外,还能分解由分子构成的残留污染物。

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材料活化

表面具有良好的润湿性,是确保在 涂漆、粘接、印刷 或者 键合 时与结合配偶体 粘附 的前提条件。

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材料蚀刻

等离子体技术可用于各向异性和各向同性蚀刻。通过化学蚀刻进行各向同性蚀刻,通过物理蚀刻进行各向异性蚀刻。

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材料涂覆

使用低压等离子体,可以改良具有不同涂层的工件。为此,会将气态和液态原材料输送到真空腔室中。

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