低成本低壓等離子體等离子设备 Zepto

适用于实验室和研发的灵活配置等离子设备

这款 Low Cost 设备 Zepto 将紧凑的结构与强大的功能相结合，专为专业等离子体应用而设计。其腔室容积约为 0 - 3 升，非常适合实验室应用、科研以及小批量生产。

适用于多种应用的灵活型Low Cost等离子设备

这款Low Cost等离子设备Zepto将功能性与最先进的技术融合于紧凑的外壳之中。凭借高达0 - 3升的腔室容积，该设备适用于各种不同的零部件和材料样品。根据应用领域，可选择半自动控制或便捷的Low Cost PC控制。这使得等离子工艺操作简便且可重复实现。

Zepto低压等离子设备广泛应用于众多行业，包括但不限于研发、分析、医疗技术、塑料技术、纺织技术以及小批量生产。凡是需要对表面进行清洁、活化或为后续工艺做准备的地方，Zepto 都能提供可靠的结果。

凭借紧凑的结构、灵活的配置和简便的操作，Zepto 既适用于实验室环境，也适用于接近生产的开发流程。

清潔

低成本低壓等離子體實驗室設備 Zepto 為各類基材的所有表面提供無菌微細清潔解決方案。等離子清潔技術能去除所有有機殘留物，且不會對元件造成化學或熱應力。

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活化

結合夥伴須承擔責任的前提，是表面須具備良好的潤濕性。在低成本低壓等離子體設備 Zepto 中，等離子體活化會在清潔完成後立即進行，並能提高表面能。

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0 - 3升腔室

Zepto等离子设备配备0 - 3升的腔室容积，特别适合处理小型样品。紧凑型工艺腔室可确保快速抽真空和短工艺周期，从而实现高效且经济的处理效果。腔室由硼硅酸盐玻璃制成，该材料具有出色的耐化学腐蚀性，从而确保了极高的纯度。凭借这些特性，Zepto 特别适用于医疗技术领域以及对纯度要求极高的实验室和研究工作。此外，位于腔体外部的电极可有效防止因材料溅射而产生的微量污染。针对特定应用，还可选配旋转瓶，以确保处理过程均匀一致。凭借Zepto周到的设计，Diener electronic 能够满足严苛的纯度要求，并为安全且可重复的工艺提供了基础。此外，还可选配 RIE 钟形腔，该设计支持将反应性离子刻蚀作为干法刻蚀技术。该工艺主要应用于PDMS芯片的光刻制造以及芯片实验室（Lab-On-Chip）的粘合工艺。RIE设备的真空腔由铝制成，中央设有金属电极。

经济实惠的Low Cost设备

Zepto等离子系统将最先进的等离子技术与紧凑的机身及直观易用的用户界面相结合。凭借其紧凑的结构设计，Zepto可快速集成到实验室和研究环境中。它在节省空间的前提下提供了强大的等离子处理能力。作为一种经济实惠的解决方案，该等离子设备为专业等离子表面处理提供了简单的入门途径。低投资成本和低运营成本与稳定的工艺质量相结合，使得该设备在要求苛刻的应用中也能实现经济高效的工作。

操作简便

尽管采用了最先进的技术，Zepto仍配备了一套结构清晰、Low Cost的PC控制系统，操作简便。在搭载Windows CE系统的控制单元中，所有工艺流程均已通过预设程序存储，因此无需具备相关专业知识或接受大量培训。该系统不仅能直观显示当前运行状态，还具备清晰明了的程序管理功能。其简便的操作方式使用户能够轻松入门等离子技术，并实现高效作业。