气相沉积
涂覆方法（PVD方法），采用这种方法可以通过输入热能或者高真空环境中的粒子轰击将金属、合金或者化学化合物沉积出来，即：通过不同方法将涂层材料从固体转化为气相，然后在基材表面上进行冷凝。PVD 方法还包括离子镀和阴极溅射 (Sputtering）。为了实现 PVD 系统，需要使用真空设备，以产生 <10-5 mbar 的高真空压力。
涂覆方法（PVD方法），采用这种方法可以通过输入热能或者高真空环境中的粒子轰击将金属、合金或者化学化合物沉积出来，即：通过不同方法将涂层材料从固体转化为气相，然后在基材表面上进行冷凝。PVD 方法还包括离子镀和阴极溅射 (Sputtering）。为了实现 PVD 系统，需要使用真空设备，以产生 <10-5 mbar 的高真空压力。
