Deposición de vapor

Procedimiento de recubrimiento (PVD) que permite deponer metales, aleaciones o compuestos químicos mediante la aportación de energía térmica o el bombardeo de partículas en vacío alto. De acuerdo con este método, el material de recubrimiento pasa de la fase sólida a la gaseosa de diferentes maneras y, acto seguido, se condensa sobre la superficie de un sustrato. Entre los tratamientos de PVD, se incluyen también el recubrimiento iónico y la pulverización catódica (sputtering). Para llevar a cabo sistemas de PVD, se necesitan sistemas de vacío para generar presiones de vacío alto <10^–5 mbar.