等离子剥离器

一种专门针对在氧气等离子体中进行有效 蚀刻 而 设计或 配备的 等离子设备。使用等离子剥离器，特别可以在完成结构化之后重新将 光刻胶掩膜 除去。光刻胶由有机树脂组成，通过在氧气等离子体中进行 各向同性 等离子蚀刻 能够很好的将其去除。光刻胶层可能较厚，故此需要较高的蚀刻速率。所需的大量 自由基 可通过 微波激发 特别好的产生。因此，等离子剥离器首选配备了微波耦合装置。如果在处理室外进行 等离子体激发 ，则没有 离子 会发挥作用，这样便能够避免带电，故此首选对基材进行各向同性蚀刻。