通过真空辅助涂覆方法进行的聚合来实现沉积，即所谓的化学气相沉积（英语：Chemical Vapour Deposition - CVD）。以粉末状的基本形式存在的“二聚体”（固体 [2,2] 对环芳烷），首先在蒸发器中发生升华。

相对惰性的“二聚体气体”在热解管的辅助下在约 650℃ 下发生热裂解，并导致形成高活性单体。在此，工艺压力取决于所使用的二聚体和设备的类型，约为 0.02 - 0.1 mbar。活性单体通过扩散进入到后续的真空腔室中，在此真空腔室中将涂覆物放到旋转支架上。

活性单体会优先在低温表面上聚合成薄薄的聚（对二甲苯）涂层或派瑞林涂层。因为并非所有单体都在腔室内聚合，所以必须防止随后对真空泵进行涂覆。故此，需要在系统中集成一个冷阱。在工艺时间内，将会使用液态氮简单地填充冷阱 ，从而使冷阱中的其余单体聚合并确保泵的功能。