聚对二甲苯

无法匹敌的表面保护

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通过真空辅助涂覆方法进行的聚合来实现沉积,即所谓的化学气相沉积(英语:Chemical Vapour Deposition - CVD)。以粉末状的基本形式存在的“二聚体”(固体 [2,2] 对环芳烷),首先在蒸发器中发生升华。

相对惰性的“二聚体气体”在热解管的辅助下在约 650℃ 下发生热裂解,并导致形成高活性单体。在此,工艺压力取决于所使用的二聚体和设备的类型,约为 0.02 - 0.1 mbar。活性单体通过扩散进入到后续的真空腔室中,在此真空腔室中将涂覆物放到旋转支架上。

活性单体会优先在低温表面上聚合成薄薄的聚(对二甲苯)涂层或派瑞林涂层。因为并非所有单体都在腔室内聚合,所以必须防止随后对真空泵进行涂覆。故此,需要在系统中集成一个冷阱。在工艺时间内,将会使用液态氮简单地填充冷阱 ,从而使冷阱中的其余单体聚合并确保泵的功能。

应用用途

在各种应用领域毫无问题的涂覆

聚对二甲苯是聚对二甲苯聚合物基团的简称。聚合物由被不同物质取代的对二甲苯组成。涂层的基础是二聚体。这是由两个相同的亚基,即所谓的单体组成的分子复合物。
 

聚对二甲苯的独特属性:

  • 与几何形状无关的绝对层厚度常数
  • 在无针孔的情况下低于 1µm
  • 极好的间隙渗透性
  • 无法匹敌的阻隔特性(特别是聚对二甲苯 C)
  • 不可溶
  • 食品纯正性和生物相容性
  • 无环境影响
  • 极佳的耐热性(聚对二甲苯 F-AF4)
  • 聚对二甲苯 是许多技术领域中诸多苛刻应用的首选:

  • 医疗/医药
  • 电子
  • 航空/航天
  • 传感器技术
  • 工业
  • 汽车技术

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