Stripping plasmatique

Système plasma spécialement conçu ou équipé pour une gravure efficace dans le plasma d'oxygène. Systèmes plasma Le stripping plasmatique est utilisé en particulier pour enlever les masques de photoréserve à l'issue du processus de structuration. Les photoréserves se composent de résines organiques pouvant très bien être éliminées par gravure isotrope au plasma dans le plasma d'oxygène. Les couches de photoréserve peuvent être épaisses, d'où la nécessité d'une vitesse de gravure élevée. Le grand nombre de radicaux requis peut être particulièrement bien généré par excitation par micro-ondes.  Un système de stripping plasmatique est donc équipé de préférence d'un couplage micro-ondes. Si une excitation de plasma s'effectue à l'extérieur de la salle de traitement, aucun ion n'est efficace, ce qui est préférable pour éviter la charge et l'attaque isotrope du substrat.

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