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也称为“管式反应器或者通道式反应器”。圆柱形 等离子设备,其将沿 工艺气体 的轴向方向流动。在 高频激发 由 MHz 辐射 进行时,将形成一个 电极 (作为圆筒),并将在圆筒中心形成第二个电极(作为板件)。第二个电极通常作为产品支架。该反应器的设计结构优选用于等离子蚀刻工艺,在该工艺中要避免基材的直接离子轰击。进行 等离子蚀刻 于筒状反应器中时,在 MHz 激发的情况下可获得较高的蚀刻速率。
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