离子蚀刻

也称为物理蚀刻或者 Ion Etching (IE)。等离子蚀刻方法将使用 惰性气体 作为 工艺气体 。惰性气体是原子气体,也就是说, 等离子体 中不存在任何 自由基,而仅会形成 原子离子电子。不存在任何 化学反应 发生在惰性气体和基材的 分子 之间,也就是说不存在 化学蚀刻工艺流程。蚀刻效果的基础在于,带正电荷的惰性气体离子被发射至带负电荷的基材上。为了使基板带负电,请将其直接放置在工作电极上,并使用射频发生器进行等离子体激发。在这种高频下,在工作电极带正电的物相中,只有轻且快速移动的电子会被加速到基材上,而与之相反,重且慢速移动的离子则不会被加速。这样便可以使基材带上负电荷,其与交变电磁场无关。因此,即使工作电极通过电容器与 发生器 发生解耦,基材也不会自行放电。此时,离子将被加速到带静态负电荷的基材上。其高动能撞击来自表面的基材原子、分子和自由基。
离子轰击方向上的蚀刻效果为纯各向异性。
蚀刻速率较低。
作为 工艺气体 ,首选使用 ,因为其在自然界中较为常见(大气中约含 1%),价格相应较为便宜,并拥有较高的质量。因此,冲击离子具有高动能和高蚀刻效果。该工艺流程类似于纳米规格的缩小型喷砂工艺流程。所以,其也被称为 微喷砂

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