KHz 等离子设备

低压等离子设备,这种设备通过 KHz 范围内的高频场进行等离子体激发。对于技术目的而言,获得批准的频率是 40 KHz 。这种频率是等离子体技术领域常用频率中最低的。KHz 等离子设备较之于 GHz-设备 和微波设备更为简单、坚固和便宜,但在进行蚀刻工艺和涂覆工艺流程时需要较高的功率。

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