CVD

化学气相沉积是一种涂覆方法,其通过 化学反应 使固态物质沉积在气态化合物组成的表面上。为了能够触发化学反应,必须将基材加热至较高的温度。并非每种基材均具有足够的耐热性。通过基材表面上方的 等离子体 激发化学反应,可以减少或者甚至是避免基材的受热。这种工艺方法被称之为 PECVD (等离子体增强化学气相沉积),或者也被称为 PACVD (等离子活化 CVD)。等离子体-CVD-工艺的主要应用在于 无定形 碳层和硅层以及氮化钛层、碳化钛或者氮化硅层。

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