CVD

Le dépôt chimique en phase vapeur est un procédé de revêtement dans lequel des substances solides sont déposées à partir de composés gazeux sur une surface par réaction chimique. Pour déclencher la réaction chimique, le substrat doit être chauffé à une température élevée Tous les supports ne disposent pas de la résistance thermique suffisante à cela. Le réchauffement du substrat peut être réduit ou même évité en stimulant la réaction chimique avec un plasma au-dessus de la surface du substrat. Ces procédés sont appelés PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) ou aussi PACVD (Plasma Activated CVD). Les applications importantes des procédés CVD plasma sont des couches de carbone et de silicium amorphes ainsi que les couches de nitrure de titane, de carbure de titane ou de nitrure de silicium.