污染物

就 等离子体技术 而言，污染物是指基材表面上所有（也包括不可见的）不需要的材料层。通常情况下，在所有基材上（无论是新生产或是存积的基材）都存在污染物，这些污染物来自环境中的沉积物、生产过程中的辅助剂或者基材本身的蒸发汽化。故此，为了确保顺利进行后续处理，几乎始终需要对基材的污染物进行 清洗。通过 等离子处理 可以毫无残留地彻底清洗掉基材上的几乎所有污染物。通过在 氧气等离子体 中进行清洗，可去除所有类型的碳氢化合物，而在 氢气等离子体 中进行清洗，则可以去除氧化层。无法通过这种方法去除的污染物，可通过 物理蚀刻 于 惰性气体等离子体中 去除，而无需考虑其化学特性，这种方法几乎对所有物质均有效（“非选择性”）。