污染物

就 等离子体技术 而言,污染物是指基材表面上所有(也包括不可见的)不需要的材料层。通常情况下,在所有基材上(无论是新生产或是存积的基材)都存在污染物,这些污染物来自环境中的沉积物、生产过程中的辅助剂或者基材本身的蒸发汽化。故此,为了确保顺利进行后续处理,几乎始终需要对基材的污染物进行 清洗。通过 等离子处理 可以毫无残留地彻底清洗掉基材上的几乎所有污染物。通过在 氧气等离子体 中进行清洗,可去除所有类型的碳氢化合物,而在 氢气等离子体 中进行清洗,则可以去除氧化层。无法通过这种方法去除的污染物,可通过 物理蚀刻 于 惰性气体等离子体中 去除,而无需考虑其化学特性,这种方法几乎对所有物质均有效(“非选择性”)。

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