Suciedad

En relación con la tecnología del plasma, se entiende por suciedad cualquier capa de material no deseada que se deposite sobre la superficie de un sustrato, incluida aquella no visible. Por lo general, todos los sustratos, tanto los recién producidos como los almacenados, contienen contaminantes surgidos del entorno por deposición, medios auxiliares de los procesos de producción o evaporaciones del propio sustrato. Por este motivo, para garantizar tratamientos posteriores correctos, los sustratos deben limpiarse prácticamente siempre para eliminar la suciedad. El tratamiento con plasma permite limpiar los sustratos sin dejar restos de casi ningún contaminante. En el plasma de oxígeno, puede limpiarse todo tipo de hidrocarburos, y en el plasma de hidrógeno, pueden eliminarse las capas de óxido. Los contaminantes que no puedan limpiarse con estos procedimientos pueden erradicarse mediante grabado físico en el plasma de un gas noble, que actúa en casi todas las sustancias (de forma "no selectiva") independientemente de las propiedades químicas que posean.