光致抗蚀剂

液态或固态膜在曝光后首选用 紫外光进行显影。 正性光刻胶 会通过曝光进行最大程度的去润湿或化学改变（酸性变化），以使被曝光的位置可通过特殊的显影剂（氯化烃、稀氢氧化钠溶液或碳酸钠、热水等）被析取。在 负性光刻胶 中，此过程是相反的，曝光位置会更强烈的进行互相结合。根据具体厚度和化学性质，可区分为抗电镀剂或抗蚀刻剂。
在对精细结构进行 蚀刻 时，被光刻胶覆盖的区域不会被蚀刻。光致抗蚀剂本身可通过 等离子蚀刻 去除。