Photoresist

En español, laca fotosensible. Película líquida o sólida que se desarrolla tras insolación, preferiblemente, con luz UV. En las lacas fotosensibles positivas, la insolación provoca pérdida de reticulación o alteración química (modificación de la acidez), hasta el punto de producir elución en los lugares insolados con reveladores especiales (hidrocarburos clorados, sosa cáustica diluida o solución de soda, agua caliente, etc.). En las lacas fotosensibles negativas, se da el proceso inverso: se produce una mayor reticulación en los lugares insolados. En función del grosor y el comportamiento químico, se distingue entre lacas fotosensibles para galvanización o grabado.
Durante el grabado de estructuras finas, el grabado no afecta a las zonas cubiertas con lacas fotosensibles. Las propias lacas fotosensibles pueden eliminarse mediante grabado con plasma.

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