负性光刻胶

光致抗蚀剂,其易溶于碱性酸(显影剂)中。曝光时, 分子 会发生交联,并且溶解度会大大降低。故此,在曝光和随后的显影之后,仅除去了未曝光区域,而曝光区域保持稳定。 

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