负性光刻胶

光致抗蚀剂，其易溶于碱性酸（显影剂）中。曝光时， 分子 会发生交联，并且溶解度会大大降低。故此，在曝光和随后的显影之后，仅除去了未曝光区域，而曝光区域保持稳定。