Hotline +49 7458 99931 - 0 Service +49 7458 99931 - 200
info@plasma.com service@plasma.com
下载信息资料
SiO2，地壳中最常见的化合物，坚硬且耐热，是非常好的绝缘体。经常在微电子行业中用作绝缘体层，通常通过以下方法制成，即 氧化 纯 硅。可通过含卤素（特别是氟）的气体在 等离子体 中进行蚀刻，从而重新露出位于其下方的 硅 。
回到詞彙表
与我们的专家通话
请写下您的需求
您清楚地知道您想要什么
