Diossido di silicio

SiO2, legame più frequente sulla crosta terrestre, duro e termoresistente, ottimo isolante. Usato molto spesso nella microelettronica come strato isolante, per lo più prodotto per ossidazione del silicio puro. Può essere inciso per acidatura mediante gas a contenuto alogeno (e in particolare di fluoro) nel plasma,  esponendo nuovamente il silicio sottostante.

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