Dioxyde de silicium

SiO2, composé le plus courant de la croûte terrestre, dur et résistant à la chaleur, très bon isolant. Très souvent utilisé en microélectronique en tant que couche isolante, réalisé la plupart du temps par oxydation de silicium pur. Peut être gravé à l'aide de gaz contenant des halogènes (en particulier du fluor) dans le plasma, le silicium sous-jacent étant de nouveau exposé.

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