离子注入

离子注入是将外来原子渗入基础材料,以改变材料特性的一种方法。离子注入主要用于向 半导体 掺杂外来原子。这些外来原子被称为掺杂剂,其又区分为在晶格中发射 电子 的施体和吸收电子的受体。
进行离子注入时,外来原子被电离,在电场中加速,并“入射”到基材中,通常情况下为 。典型的掺杂剂有:硼、磷、砷、铟、锗、氧、氮、碳。晶体中的晶格位置被这些外来原子所占据,而不是基础材料的 原子

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