离子注入

离子注入是将外来原子渗入基础材料，以改变材料特性的一种方法。离子注入主要用于向 半导体 掺杂外来原子。这些外来原子被称为掺杂剂，其又区分为在晶格中发射 电子 的施体和吸收电子的受体。
进行离子注入时，外来原子被电离，在电场中加速，并“入射”到基材中，通常情况下为 硅。典型的掺杂剂有：硼、磷、砷、铟、锗、氧、氮、碳。晶体中的晶格位置被这些外来原子所占据，而不是基础材料的 原子 。