Tetra 150

Impianti al plasma a bassa pressione

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L’impianto al plasmaTetra 150 viene utilizzato principalmente per le seguenti applicazioni:

  • Archeologia
  • Automotive
  • Biotecnologia
  • Tecnologia degli elastomeri
  • Elettrotecnica
  • Microscopia elettronica
  • Meccanica di precisione
  • Ricerca e sviluppo
  • Tecnologia dei semiconduttori
  • Produzione in piccole serie
  • Tecnologia delle materie plastiche
  • Tecnologia medicale
  • Tecnologia dei microsistemi
  • Tecnologia delle celle solari
  • Tecnologia tessile

Diversi modelli

Modello 1

Modello 1, impianto standard
Controllo PC di base nel  dispositivo di base tipo A
Camera da vuoto, rettangolare, acciaio inox, porta a battente
(B: 400 mm, P: 625 mm, A: 600 mm)
Alimentazione di gas: 
MFC

Modello 2

Modello 2, impianto standard
controllo FULL PC nel dispositivo di base tipo A
Camera da vuoto, rettangolare, acciaio inox, porta a battente
(B: 400 mm, P: 625 mm, A: 600 mm)
Alimentazione di gas:
MFC

Modello 3

Modello 3, impianto standard
controllo BASIC PC nel dispositivo di base tipo A
(B 600 mm x P 800 mm x A 2.100 mm)
Camera da vuoto, rettangolare, acciaio inox, porta a battente
(B: 400 mm, P: 625 mm, A: 600 mm)
Alimentazione di gas:
MFC

Modello 4

Modello 4, impianto a gas corrosivo (ad es. per i gas di processo a base di fluoro)
controllo FULL PC nel dispositivo di base tipo A
(B 600 mm x P 800 mm x A 2.100 mm)
Camera da vuoto, rettangolare, acciaio inox, porta a battente
(B: 400 mm, P: 625 mm, A: 600 mm)
Alimentazione di gas:
MFC

Modello 5

Modello 5, impianto di polimerizzazione del plasma
Controllo PC di base nel dispositivo di base tipo A
(B 600 mm x P 800 mm x A 2.100 mm)
Camera da vuoto, rettangolare, acciaio inox, porta a battente
(B: 400 mm, P: 625 mm, A: 600 mm)
Alimentazione di gas:
valvola a spillo

Modello 6

Modello 5, impianto di polimerizzazione del plasma
controllo FULL PC nel dispositivo di base tipo A
(B 600 mm x P 800 mm x A 2.100 mm)
Camera da vuoto, rettangolare, acciaio inox, porta a battente
(B: 400 mm, P: 625 mm, A: 600 mm)
Alimentazione di gas:
valvola a spillo

Dati tecnici

Configurazione di base

  • Le dimensioni dell'alloggiamento variano a seconda dei componenti / delle opzioni
  • Volume della camera: 150 litri, a seconda della versione
  • Alimentazione elettrica: 230 V oder 400 V / trifase

Alimentazione di gas

  • Mass-Flow-Controller (MFC)

Camere da vuoto

  • Acciaio inox, rettangolare, porta a battente (ca. B 400 mm x A 600 mm x P 625 mm)
  • Camera rettangolare in alluminio (ca. B 400 mm x A 600 mm x P 625 mm)

Caricamento

  • Supporto pezzo di lavorazione (opzione: raffreddato ad acqua), vassoio in quarzo, tamburo rotante per polveri, tamburo rotante per pezzi sfusi, lamiera di alluminio, lamiera di acciaio inossidabile, vetro borosilicato, quarzo

Elettrodi

  • A uno o più strati
  • Elettrodo RIE con doccia a gas

Sistemi di controllo

  •     Controllo PCCE (Microsoft Windows CE)
  •     Controllo PCCE (Microsoft Windows 10 IoT)

Misurazione della pressione

  • Pirani
  • Manometro capacitivo (per versione con gas corrosivo)

Timer

  • integrato nel PC

Generatori

Frequenze:  

  • 80 kHz: Potenza 1000 o 3000 W
  • 13,56 MHz: Potenza 0 - 300 W; 0 - 600 W; 0 - 1000 W
  • 2,45 GHz: Potenza 0 - 1200 W

Tutti i generatori sono regolabili in continuo da 0 a 100 %.

Pompe per vuoto

  • In diverse dimensioni e di diversi produttori (se necessario, con filtro a carboni attivi)

Ulteriori opzioni

Set di ricambi, Manometro, Ambiente di utilizzo corrosivo, Bombole di gas, Riduttore di pressione, Piastra di riscaldamento, Visualizzazione della temperatura, Camera riscaldabile, Gabbia Faraday, Accessori per la polimerizzazione, Inchiostri di prova, Generatore di ossigeno, Ventilazione lenta, Pompaggio lento, Flangia portacampioni TEM, Manutenzione/Assistenza, Documentazione in lingua nazionale, Installazione in loco, incl. training. Altre opzioni su richiesta.

+49 7458 99931-0

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