PACVD (PECVD)

Nel processo chimico di deposizione in fase di vapore (Chemical Vapour Deposition, CVD) uno strato solido è formato su una superficie del substrato da molecole gassose che reagiscono al calore del substrato. Nel CVD plasma-assistito (PACVD), la radiazione UV genera radicali dalle molecole di gas di processo, che reagiscono sulla superficie anche senza influsso della temperatura.
Contrariamente al processo CVD, il processo PACVD può quindi essere utilizzato anche su substrati con bassa resistenza al calore. Anziché PACVD, si usa anche il termine PECVD (Plasma Enhanced CVD, CVD potenziato al plasma).